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2023国考报名第七日:知识产权局竞争比高达290:1!审核通过人数高达3674人!

华图公务员考试网 | 2022-11-01 13:53

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2023年国考报名已经进行七天,大家要准备开始报名了,并注意查看审核结果。今天小编给大家带来国考知识产权局的报考情况速递。今年知识产权局系统总招录职位与2022年相比有所下降,招录人数有所减少,计划招录职位数30个,计划招录79人。

表1 知识产权局报名第七日整体报考情况(截至31日17:00前)

计划招录职位数 30 计划招录人数 79
已报名职位数 30 审核通过人数 3674
未报名职位数 0 待审核人数 561 总人数 4235
平均竞争比 46.51:1 最大竞争比 290:1

截止到31日17时00分,知识产权局系统报名情况显示,职位已报名30个,占总招录职位的100%.已通过审核的人数为3674人,待审核人数561,总人数4235,平均竞争比46.51:1,最大竞争比为290:1。下面我们将对知识产权局报名情况进行全面分析,帮助仍未报名的考生理性选择。

(一)报名人数前十的十个岗位

表2知识产权局系统报名人数前十岗位的情况(截止31日17:00前)

部门名称 部门代码 用人司局 职位代码 招考人数 未审核 已审核 竞争比
国家知识产权局 176000 商标局 400110002001 6 168 561 729 94:1
国家知识产权局 176000 外观设计审查部 400110016001 4 69 291 360 73:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014002 3 3 317 320 106:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013002 2 65 236 301 118:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013003 1 2 290 292 290:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014004 2 7 267 274 134:1
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007002 3 28 130 158 43:1
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007003 4 33 107 140 27:1
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008001 4 9 129 138 32:1
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008002 4 9 126 135 32:1

我们从上表不难看出,目前“国家知识产权局商标局”的“审查部门一级主任科员及以下”职位报名人数最多,该岗位招录6人的情况,有729人报名,有561人通过审核,168人暂未审核,报名人数最多;其次是“外观设计审查部”的“审查处室一级主任科员及以下”招录人数为4人,报名人数为360人,有291人通过审核,69人未审核报名人数略少;造成报名人数过多是由于对专业范围限制小,大多数考生对招录人数少竞争就小的观念依然存在。

(二)招考人数最多的岗位

知识产权局系统所有岗位招考及报名人数如表3所示,其中招考人数最多的是国家知识产权局商标局,共招录6人,报名人数729人,待审核168人,已审核通过561人。我们可以看出来知识产权局局系统招考人数并不多,6人已经是招录最多的职位,可以预见未来竞争的激烈程度,但是招考人数少的的岗位不一定比招考人数多的岗位竞争更激烈。所以大家应理性报考,根据自身优势条件进行报考,减少竞争压力。

表3 知识产权局系统招考人数情况(截止31日17:00前)

招考部门 部门代码 用人司局 职位代码 招考人数 待审核 已审核 总数
国家知识产权局 176000 商标局 400110002001 6 168 561 729
国家知识产权局 176000 外观设计审查部 400110016001 4 69 291 360
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008001 4 9 129 138
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008002 4 9 126 135
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008004 4 5 111 116
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007003 4 33 107 140
国家知识产权局 176000 通信发明审查部 400110010001 4 14 95 109
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008003 4 4 93 97
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014002 3 3 317 320
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007002 3 28 130 158
国家知识产权局 176000 化学发明审查部 400110012001 3 4 120 124

(三)资格审核人数前十的岗位

知识产权局系统所有岗位资格审核人数前十的岗位如表4所示,其中资格审核人数竞争最大的是商标局,共729人报名人,待审核168人,已审核561人。造成商标局资格审核人数多的原因是由于岗位对专业限制小,可报考的考生范围大;由于商标局是知识产权局招考人数最多的岗位,大部分考生具有招考人数多竞争就小,上岸机率就打的观念。我们通过已通过资格审核的人数,以及形成的竞争比可以看出关注此岗位考生的数量,也更有利于我们对岗位报考的正确判断。

表4知识产权局系统资格审核人数前十的岗位的情况(截止31日17:00前)

招考部门 部门代码 用人司局 职位代码 招考人数 待审核 已审核 总数 竞争比
国家知识产权局 176000 商标局 400110002001 6 168 561 729 93.50:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014002 3 3 317 320 105.67:1
国家知识产权局 176000 外观设计审查部 400110016001 4 69 291 360 72.75:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013003 1 2 290 292 290.00:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014004 2 7 267 274 133.50:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013002 2 65 236 301 118.00:1
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007002 3 28 130 158 43.33:1
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008001 4 9 129 138 32.25:1
国家知识产权局 176000 机械发明审查部 400110008002 4 9 126 135 31.50:1
国家知识产权局 176000 化学发明审查部 400110012001 3 4 120 124 40.00:1

(四)竞争最激烈的十个岗位

表5 知识产权局系统竞争度前十岗位的情况(截止31日17:00前)

部门名称 部门代码 用人司局 职位代码 招考人数 待审核 已审核 总数 竞争比
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013003 1 2 290 292 290.00:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014004 2 7 267 274 133.50:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013002 2 65 236 301 118.00:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014002 3 3 317 320 105.67:1
国家知识产权局 176000 商标局 400110002001 6 168 561 729 93.50:1
国家知识产权局 176000 外观设计审查部 400110016001 4 69 291 360 72.75:1
国家知识产权局 176000 光电技术发明审查部 400110013005 2 1 120 121 60.00:1
国家知识产权局 176000 材料工程发明审查部 400110014003 2 2 97 99 48.50:1
国家知识产权局 176000 初审及流程管理部 400110007002 3 28 130 158 43.33:1
国家知识产权局 176000 化学发明审查部 400110012001 3 4 120 124 40.00:1

通过以上数据我们可以得竞争最为激烈的是隶属“国家知识产权局”的“光电技术发明审查部”,竞争比为290比1。其学历要求为硕士研究生及以上,并且要求的专业都专业性较强,而且要求英语六级合格或成绩425分及以上,或托福网考成绩90分及以上,或雅思成绩6.5分及以上。但是工作地点为北京昌平区,落户地点为北京市海淀区,由于工作地点地理位置优越,待遇优厚,发展前景较好,所以导致岗位竞争较大。如果有报此岗位的小伙伴要努力学习啦!

最后,华图教育提醒各位考生,现在是第七天报名,距离报名结束还有三天。知识产权局竞争比高达290:1!通过人数高达3674人!今天与昨天相比较,上涨幅度并不大。各位考生应理性看待,积极备考。报考时间还有三天结束,还在观望的考生,应尽快锁定3~5个岗位,“一个岗位沦陷了,另一个岗位顶上去”也就是让我们合理避开竞争激烈的岗位,提高我们的上岸几率。已有心意岗位的同学要开始准备报名了,报名后一定注意查看审核结果。

华图教育将持续为您提供公考服务,祝您成功上岸!

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